分散法制备混悬液胶体磨

悬浮性好分散均匀的溶液，分散法制备混悬液胶体磨，兽药混悬液胶体磨，人药混悬液胶体磨，全进口高速胶体磨

混悬剂的要求是：混悬的微粒应细微均匀、下沉缓慢、其速度不影响剂量的正确量取；下沉后的微粒不结块，稍加振摇即能均匀分散；在*贮存中粒子大小保持不变；不太粘稠，易倾倒；外形美观，味道可口并具有一定的防腐能力；外用混悬剂应易于涂布，不易流散，能快速干燥，干后能形成不易擦掉的保护膜。混悬剂的微粒一般在1um以上，混悬剂在医疗上应用较广，在口服、外用、注射、滴眼、气雾以及*等剂型中都有应用。

分散法制备混悬液时，亲水性药物，一般先研至一定细度，再加液研磨和稀释；疏水性药物，应先将药物与润湿剂研匀，再加液研磨、稀释。凝聚法包括化学反应法和微粒结晶法，制备时应注意化学反应生成沉淀的条件，以便制得均匀、细腻的新生沉淀。处方中往往须加入助悬剂、润湿剂、絮凝剂与反絮凝剂等稳定剂。下面具体讨论混悬液分散制得的方法：主要采用上海依肯机械设备有限公司混悬液研磨分散机或者说是混悬液胶体磨，能够细化混悬液的颗粒，降低沉降速率，制得悬浮性好分散均匀的溶液。

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IKN胶体磨（锥体磨，粉碎机，研磨机）结构：三道磨碎区，一层为粗磨碎区，二层为细磨碎区，三层为超微磨碎区。虽然都是三层结构，但是普通设备的设计不同理念不同，形状及齿列的结构。

1，定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

2，齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。

3，沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

胶体磨（锥体磨，粉碎机，研磨机）内部结构及分析：

　　研磨粉碎区设有三道磨碎区，一层为粗磨碎区，二层为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

混合区：首先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合，在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺；

剪切区：物料进入剪切区后，由于上道工序只把物料进行混合，没有把物料进行大颗粒破碎，这个问题由高剪切机来完成，该剪切区由三层数百条刀槽组成，将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。

研磨区：研磨区是由凹凸胶体磨组成，转定子切有许多中齿及细齿组成，将已剪切的小颗粒进行深化研磨，研磨时可调距离为0.01~3mm；

研磨的效果跟一下有关：
影响分散研磨结果的因素有以下几点
1）磨头头的剪切速率（越大，效果越好）
2）磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
3）物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
4）循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

设备特点：

1）转速14000rpm与其它厂家2900转左右高出约4-5倍：

2）磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大，效果更好。

3）德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4）CM2000/4中试型胶体磨与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到zui低。

5）结构特点：分立式、卧式两种规格。卧式直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴，直联电机的转速决定转子转速。

我公司是采用立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。

其主机部份由壳体、定子、转子、调节机构、冷却机构、电机等组成。其主要零件均采用不锈钢制造，耐腐蚀，无毒。使用单位可依不同物料特性，生产效率，不同用途，选用不同规格型号的胶体磨（锥体磨，粉碎机，研磨机），使之达到良好的效果。

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