详细介绍
Dateblat LabSpin 旋转匀胶机
实验室涂胶显影方案,大尺寸6”到8”
该系统根据实验室和研发用途定制开发,针对不同类型的光刻化学试剂设计,通过*的腔体设计,提供均匀、精确和重复性高的涂胶结果.
LabSpin系统提供两种型号的设备,分别是桌上型(table-top,TT)和集成型(集成在湿化学槽中,Bench Module,BM),都可以完成大尺寸为150mm或200mm的衬底涂覆功能。LabSpin涂胶机可以应用于非常广泛的衬底材料,从碎片到150/200mm圆片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的设备尺寸只需要很小的占地空间。
LabSpin设计了大量的选配件,适用于不同应用的需求。该涂胶系统可以装配针筒或自动滴胶臂、边缘涂覆、去厚胶边、积水式显影等等多种配置。
蓝星宇科技专业研发设计组装:紫外臭氧清洗机(UV清洗机),准分子清洗机,等离子清洗机等仪器设备。引进日本,德国,韩国*技术,设备已获得众多院校,研究所,高科技企业等客户*认可。
同时我们专注进口科学仪器设备及材料,主要代理有:德国Nanoscribe 双光子微纳 3D 打印机(双光子飞秒激光直写仪),德国 SUSS 苏斯光刻机,德国 Heidelberg 海德堡光刻机,美国 OAI 光刻机,德国 Raith 电子束光刻机,英国 Durtham 无掩膜光刻机,美国 Trion 刻蚀机.沉积机,德国 Sentech 刻蚀机.沉积机,德国 Optosol 吸收率发射率检测仪,日本 SEN UV清洗机.UV清洗灯,美国Jelight UV清洗机,美国 Nano-master 晶圆清洗机,美国 Arradiance 原子层沉积机,德国 WL 微波离子沉积机,德国 Iplas 微波离子沉积机,美国量子科学 Quantum 综合物性测量系统,德国 Diener 等离子清洗机等*技术产品;并可依据客户需求,研发定制相关仪器及材料。我们以具竞争力的价格为客户提供优质的产品与服务,为中国半导体/电子/光电/生物//高科技企业/高校学院/研究所/检测分析等客户提供设备仪器及材料。
选项:
全自动
- ACS300 Gen3
- ACS300 Gen2
- ACS200 Gen3
半自动及手动
- LabSpin6 / LabSpin8
- RCD8
亮点:
。工艺多样化,包括涂胶和积水或显影,
。可进行去除厚胶边,
。滴胶位置可调节,允许中心滴胶和边缘涂胶。
Dateblat LabSpin 旋转匀胶机