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深圳市科晶智达科技有限公司
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简要描述:钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。
钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。
功能特点 |
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技术参数 | ||
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镀膜室 | ● 不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm | |
真空排气系统 | ● 采用分子泵+机械泵系统 | |
真空度 | ● 镀膜室极限真空≤6×10-4Pa | |
系统漏率 | ● ≤1×10-7Pa | |
蒸发源 | ● 安装在真空室的下底上;有机蒸发源4个、容积5ml,2台蒸发电源,可测温、控温,加热温度400℃,功率0.5KW;无机蒸发源4套、容积5ml,2台蒸发电源,加热电流300A,功率3.2KW;蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启 | |
样品架 | ● 安装在真空室的上盖上,可放置Ø120mm的样品、载玻片,旋转速度0-30rpm | |
加热温度 | ● RT-180℃,测温、控温 | |
膜厚控制仪 | ● 石英晶振膜厚控制仪,膜厚测量范围0-999999Å |
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