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分子筛浆料高速胶体磨

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号 CMSD2000
  • 品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 上海

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更新时间:2017-06-13 15:57:36浏览次数:599

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产品简介

分子筛浆料高速胶体磨,分子筛高分子高剪切胶体磨,分子筛高分子浆料研磨机,分子筛浆料高速剪切胶体磨,分子筛高分子研磨机,分子筛浆料胶体磨 ,氧化铝高速胶体磨是是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定,转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力,摩擦力,高频振动等物理

详细介绍

分子筛浆料高速胶体磨,分子筛高分子高剪切胶体磨,分子筛高分子浆料研磨机分子筛浆料高速剪切胶体磨,分子筛高分子研磨机,分子筛浆料胶体磨 ,氧化铝高速胶体磨是是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定,转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力,摩擦力,高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化,分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化 分散 的效果。详情请接洽上海依肯,段,手机,(同号) 

 

 分子筛浆料分子筛是指具有均匀的微孔,其孔径与一般分子大小相当的一类物质。分子筛的应用非常广泛,可以作高效干燥剂,选择性吸附剂,催化剂,离子交换剂等,但是使用化学原料合成分子筛的成本很高。常用分子筛为结晶态的硅酸盐或硅铝酸盐,是由硅氧四面体或铝氧四面体通过氧桥键相连而形成分子尺寸大小(通常为0.3~2 nm)的孔道和空腔体系,因吸附分子大小和形状不同而具有筛分大小不同的流体分子的能力。分散头

 

浆料的淹没效果分析

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

 

胶体磨磨头头的剪切速率 (越大,效果越好)

胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

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线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) = 速率 (m/s) 
-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN -转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(转子直径)转速 RPM / 60

 

IKN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较:

 

一,转速和剪切速率:IKN纳米胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍

分散头

二,胶体磨头和间距:IKN纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差

 

三,机械密封:IKN纳米胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

磨具体设备咨询:

 

定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

 

氧化铝浆料胶体磨,分子筛浆料胶体磨 ,氧化铝高速胶体磨

附件中是我公司物料的一部分性质,请根据物料性质,简单判断一下,大约需要做多少次试验。

2,目前我公司输送该物料用的是砂浆泵,非转子泵。

3,我们的目的是用胶体磨把大于100微米的颗粒粉碎至50微米以下。

4,颗粒主要成分为硅铝酸盐,硬度较硬,但硬度我们没有数据。

5,我们6月1日投产,以后都有物料,可以进行试验。

6,物料易沉淀,沉淀后很难重新混合。

 

的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度,大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度,中等精度,细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数,狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

设备等级:化工级,卫生I级,卫生II级,无菌级

电机形式:普通马达,变频调速马达,防爆马达,变频防爆马达,
电源选择: 380V/50HZ,220V/60HZ,440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护,降噪型
研磨分散机材质:SUS304 ,SUS316L ,SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐,排污阀,变频器,电控箱,移动小车
研磨分散机表面处理:抛光,耐磨处理
进出口联结形式:法兰,螺口,夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 

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