氧化铁泥饼超高速胶体磨

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氧化铁泥饼研磨分散机,氧化铁红分散机,铁黄色浆分散机 机比普通的研磨机的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好,转速可以达到14000RPM。

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影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

2 胶体磨磨头头的剪切速率 （越大,效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好）

4 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间（可以看作同等的电机,流量越小,效果越好）

5 循环次数（越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-转子 间距 (m)

氧化铁泥饼研磨分散机

胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是：在粗精度,中等精度,细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数,狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出***终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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氧化铁泥饼胶体磨采用了二级处理结构,级采用了高剪切胶体磨的磨头模块,第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块,第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定转子精密度都达到了水平。

氧化铁泥饼胶体磨是IKN（上海）公司2013研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。
 

氧化铁泥饼胶体磨 CMD2000系列研磨分散机的结构：

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是：在粗精度,中等精度,细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数,狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出***终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

氧化铁泥饼 IKN胶体磨有很高的线速度,以及特殊上深下浅的三级磨头结构,一次处理即可满足细化要求。级刀头形状,可以把相对大块的物料进行初步粉碎,以便能顺利通过更细的两级进行细微化研磨。 磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下浅的齿列结构,相较沟槽是直线,同级的沟槽深度一样的磨头,可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿,但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

氧化铁泥饼胶体磨为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到***低,保证机器连续24小时不停机运行。

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