68t/h电子工业用高纯水设备

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一、制备电子工业用高纯水设备概述

　　制备电子工业主要包括半导体材料、印刷电路板、液晶显示器、光电器件、微电子工业以及大规模集成电路，这些领域对于用水要求都非常高，一般将电子行业用水分为五个等级，分别是1 MΩ.cm、5 MΩ.cm、10 MΩ.cm、16 MΩ.cm和18 MΩ.cm。制备电子工业用高纯水设备采用*的制水技术，保证设备的出水水质达到18兆欧以上。

　二、制备电子工业用高纯水设备工艺流程

　　电子行业制备高纯水的工艺大致分成以下几种：

　　1、采用离子交换树脂制备高纯水的其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴床(复床)→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

　　2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

　　3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备，这是一种制取高纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的高纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→(EDI)泵→保安过滤器→紫外线→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

　三、LTLD-C制备电子工业用高纯水设备的特点

　　EDI装置不需要化学再生，可连续运行，进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液，以及再生所排放的废水。其主要特点如下：

　　连续运行，产品水水质稳定，容易实现全自动控制，无须用酸碱再生，不会因再生而停机，节省了再生用水及再生污水处理设施，产水率高(可达95%)，无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施。

　占地面积小，使用安全可靠,避免工人接触酸碱，降低运行及维护成本，设备单元模块化，可灵活的组合各种流量的净水设施，安装简单、费用低廉，设备初期投资大。