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微电子产品、半导体、显象管等制造业生产用高纯水电子工业用超纯水设备

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  • 型号 HC-12302
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更新时间:2017-08-02 01:05:24浏览次数:1041

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产品简介

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。

详细介绍


纯水、高纯水设备
1.电子工业用超纯水概述
    半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。

2.制备电子工业用超纯水的工艺流
电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种:
   1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
   2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
   3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的的方式,这是一种制取超纯水的工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点  


3.电子超纯水设备特点
     设备通常由多介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用*和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。  


4.电子工业用超纯水的应用领域
     1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
   2、超纯材料和超纯化学试剂;
   3、实验室和中试车间;
   4、汽车、家电表面抛光处理;
   5、光电产品;
   6、其他高科技精微产品;
 

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