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技术文章

UV+活性炭吸附一体机 uv光解活性炭除臭设备

阅读:104          发布时间:2024-2-27

UV光解活性炭一体机环保设备可以作为酸雾净化塔、低温等离子体废气净化设备、高能离子净化器的末端配套设备,也可以作为中低浓度废气的直接处理设备

UV光解活性炭吸附一体机适用场所: 除臭设备广泛应用于喷漆厂除臭、橡胶厂除臭、塑料厂、油漆厂除臭、喷涂车间除臭、电子厂除臭、造纸厂除臭、电路板厂、包装厂除臭、树脂厂除臭、油墨厂除臭、医药厂除臭、饲料厂除臭、涂装厂除臭、纺织服装厂除臭、养殖屠宰厂除臭、污水泵站除臭、垃圾处理站除臭、污泥干化站除臭、防水材料厂除臭、沥青厂除臭、电镀厂除臭、化肥厂除臭、家具厂除臭、皮革厂除臭、烟草除臭、化工厂除臭、冷冻厂除臭、食品厂除臭、造纸厂除臭、印刷厂除臭、饲料厂除臭、香精厂除臭、污水处理厂除臭、VOC有机废气处理除臭、养龟房除臭除臭、4s店喷漆废气除臭、酒店除臭、商场除臭、医院除臭、粪便处理、合成纤维、合成树酯、工业污水、生活污水处理等行业的废气处理、臭气处理、尾气处理、异味净化、空气净化、消毒杀菌等。

UV光催化氧化阶段
 

 
工作原理:
 
本产品利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而生成臭氧;
 
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧与呈游离状态污染物质原子聚合,生成新的、无害或低害物质,如CO2、H2O等。同时在污染体系中投加一定量的光敏半导体材料,结合一定量的光辐射,使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对,吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用,产生·HO等氧化性强的自由基,再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等式污染物全部或接近全部氧化。
 
作用过程:
 
刺激性气味气体利用排风设备输入到UV光解净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同裂解、氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。
 
产品特点:
 
本产品利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体物质分子键,裂解刺激性臭味气体物质如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子键,在半导体催化剂的作用下,使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质,如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧,在半导体催化剂的作用下,进行催化氧化反应,达到脱臭及杀灭细菌的目的。
 
UV+活性炭一体机
 


 
活性炭吸附阶段
 
活性炭吸附装置处理有机废气的原理是在一定的温度和压力下,当活性炭与有机废气接触时,有机废气吸附于活性炭的细孔中。气、固相开始接触时,对有机废气中的甲苯、二甲苯、苯乙烯及丙酮等有机物的吸附是主要过程,在活性炭的众多微孔中分为大中小三种孔,只有微小孔是吸附的主力军,活性炭具有微晶结构,微晶排列不规则,晶体中有微孔(半径小于20〔埃〕=10-10米)、过渡孔(半径20~1000)、大孔(半径1000~100000),使它具有很大的内表面,比表面积为500~1700米2/克。这决定了活性炭具有良好的吸附性,可以吸附废水和废气中的金属离子、有害气体、有机污染物、色素等。工业上应用活性炭还要求机械强度大、耐磨性能好,风阻小。它的结构力求稳定,吸附所需能量小,以有利于再生。活性炭用于油脂、饮料、食品、饮用水的脱色、脱味,气体分离、溶剂回收和空气调节,用作催化剂载体和防毒面具的吸附剂。随着时间的延长,活性炭细孔中吸附质浓度的不断增大,吸附速度会不断减慢,直到活性炭达到饱和状态。此时,吸附速度和解吸速度达到动态平衡,气、固相之间的传递相等。活性炭在这时需要进行解吸脱附再生。
 

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