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二氧化硅/硅粉混合分散机 研磨机

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参考价 165000
订货量 1
具体成交价以合同协议为准
  • 型号 CMD2000
  • 品牌 其他品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 上海市

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更新时间:2024-01-14 09:39:02浏览次数:450

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产品简介

工作方式 高速万能研磨机 加工批量 2-L
介质尺寸 1-1-1mm 类型 专用研磨机
驱动方式 变频 驱动功率 4-KW
适用物料 通用 外形尺寸 1-1-1mm
行程 1-1-1mm 研磨篮容量 2-L
应用领域 通用 重量 50-kg
作用对象 其他    
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详细介绍

    硅粉高速研磨分散机,硅粉高剪切研磨分散机,二氧化硅/硅粉混合分散机,硅微粉湿法研磨分散机,硅粉高速研磨机,14000转高速研磨分散机,研磨分散机是研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

  
   硅粉(Microsilica 或 Silica Fume),也叫微硅粉,学名"硅灰",又叫硅灰,是工业电炉在高温熔炼工业硅及硅铁的过程中,随废气逸出的烟尘经特殊的捕集装置收集处理而成。

   从硅微粉与微硅粉性能或作用上硅业在线是这么划分的:硅微粉概括的说具备耐温性好、耐酸碱腐蚀、导热性差、高绝缘、低膨胀、化学性能稳定、硬度大等优良的性能。根据其用途硅微粉分为以下几类:普通硅微粉、电工级硅微粉、电子级硅微粉系列、熔融石英硅微粉、超细石英硅微粉、.纳米硅微粉。

    各种硅微粉的具体用途如下: 1.通硅微粉,主要用途用于环氧树脂浇注料、灌封料、电焊条保护层、金属铸造、陶瓷、硅橡胶、涂料及其它化工行业。

2.电工级硅微粉,主要用途用于普通电器件的绝缘浇注,高压电器的绝缘浇注,APG工艺注射料,环氧灌封料,高档陶瓷釉料等。

3.电子级硅微粉,主要用途主要用于集成电路、电子元件的塑封料和包装料。

4.熔融石英微粉,熔融石英微粉(WG)所用原料是天然石英经经高温熔炼,冷却后的非晶态SiO2,经多道工艺加工而成的微粉。该产品纯度高,具有热膨胀系数小,内应力低,高耐湿性,低放射性等优良特性。用于大规模及超大规模集成电路用塑封料,环氧浇注料,灌封料,及其它化工领域。

5.超细石英微粉,主要用途 主要用于涂料,油漆,工程塑料,粘合剂,奎 橡胶,精密铸造高级陶瓷。

6.纳米SiOx,纳米SiOx作为纳米材料中的重要一员,主要应用于电子封装材料、高分子复合材料、塑料、涂料、橡胶、颜料、陶瓷、胶粘剂、玻璃钢、药物载体、化妆品及抗菌材料等领域,已经成为传统产品的提档升级换代的新型材料。

 
    为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。

 

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IKN研磨机国内研磨机比较:
转速和剪切力:
国内研磨机,3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨机,9000/14000RPM通过皮带加速
线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造:
国内研磨机,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN研磨机,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。
密封:
国内研磨机,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
IKN研磨机,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至之低,可24小时不停运转,特殊德国PDFE轴封,可以运行10000小时,可选择德国高品质机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以之大承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口之大压力可以达到12-13 bar .
产品效果:
国内研磨机,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀
IKN高剪切研磨机 可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米级分散乳化粉碎

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

80000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到之大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和之终产品的要求。

  
   
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