半导体生产中水回用

　　半导体生产中水回用

　　针对半导体生产中水，莱特莱德提供完整的中水处理方案，中水回用方案。半导体生产中水回用系统通过膜生物反应器和三级处理系统，对半导体中水进行处理，使之达到新的严格的环境规定，实际在工厂内的再次利用，不仅能有效地节约有限的水资源，而且能减少污水的排放，具有良好的经济效益。

　　1、中水回用设备淤泥产出量低、臭气产出量低、能量需求量低，化学品需要量较小或为零。

　　2、资源利用经本系统处理后的回用水，满足严格的工厂回用水品质要求，可供应纯水系统或直接回用到生产线。

　　3、性价比高本系统操作便捷，抗冲击负荷，占地紧凑，稳定性高，运转成本低，经过大量成功案例验证。半导体生产中水主要来自车间的镀槽、清洗水等，中水中含有的主要污染物有：Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸碱等。半导体生产中水排放量大，中水污染物种类多，成份复杂，尤其是溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差异，使半导体中水回用对常规技术处理造成了挑战。

　　莱特莱德北京环境有限公司提供的半导体生产中水回用系统通过膜生物反应器和三级处理系统，对半导体中水进行处理，使之达到新的严格的环境规定，实际在工厂内的再次利用。本系统不仅能有效地节约有限的水资源，从而减轻对水资源的消耗，缓解日趋突出的用水紧张矛盾，而且能减少污水的排放，减轻对周围水体的污染，改善人类居住环境。