VPE气相外延炉 汤锅炉

VPE气相外延炉

设备概述

气相外延是一种单晶薄层生长方法。气相外延广义上是化学气相沉积的一种特殊方式性质：在气相状态下，将半导体材料淀积在单晶片上，使它沿着单晶片的结晶轴方向生长出一层厚度和电阻率合乎要求的单晶层，这一工艺称为气相外延。

其特点有

（1）外延生长温度高，生长时间长，因而可以制造较厚的外延层；

（2）在外延过程中可以任意改变杂质的浓度和导电类型。工业生产常用的气相外延工艺有：四氯化硅（锗）外延，硅（锗）烷外延、三氯氢硅及二氯二氢硅等（二氯二氢硅具有淀积温度低，沉积速度快，淀积成膜均匀等优点）外延等。。已广泛的应用于霍尔器件、耿氏二极管、场效应晶体管等微波器件中。

   技术参数  

    ● 结构形式：立式或卧式 

    ● 工作温度：300℃～1000℃

    ● 恒温区精度：±1℃ 

    ● 气体流量精度：±2%FS或±5%FS 

 青岛微弘设备技术有限公司（以下简称青岛微弘）是一家集研发、生产、销售为一体的半导体新能源设备、光伏太阳能新能源装备、材料热处理设备的综合性现代企业，自创立以来，通过产业经营与资本运营并举发展，已形成了光伏太阳能电池、功率半导体、锂电池材料、磁性材料、粉末冶金、硬质合金、陶瓷金属化等多行业发展的产业布局。公司立足山东，*，业务覆盖国内大部分省市和地区。

青岛微弘拥有十几年的专业研发制造经验，产品服务广泛应用于行业内的大专院校、科研院所、半导体制造、太阳能光伏制造、锂电池材料制造、高性能磁性材料制造等。核心产品方面，太阳能电池行业用的扩散炉等已达到国内*水平，可以替代进口设备。在功率半导体行业，成功研制生产真空扩散氧化炉、真空合金炉、LPCVD等产品，另外真空热处理炉、氢气炉等产品也已得到广泛的应用。       

青岛微弘拥有精良的科研、设计、制造、服务团队，为中国半导体设备行业协会会员单位、国家半导体照明工程研发及产业联盟会员单位、中国磁性材料与器件协会会员单位，承接并出色完成了一系列国家重点项目的设备的设计制造，为国家863计划等重大科技攻关项目做出了突出贡献。       

 公司坚持“质量是企业的生命，诚信是立足的根本，服务是发展的保障，不断创新是微弘永恒的追求”的经营理念，加快推进“高度专业化” 发展战略，致力于实现员工成长、客户满意、企业发展、社会进步的多赢。

● 升温速率：0～15℃/min

● 转速：0～20转/分

● 适合2～4〃工艺  

● 漏气率：≤1×10﹊9mbar/s

VPE气相外延炉