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真空烤盘炉 麻辣烫炉

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更新时间:2023-04-01 09:57:27浏览次数:954

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产品简介

真空烤盘炉

应用于LED行业MOCVD石墨盘的真空烘烤工艺

产品特点

● 优质的材质保证了设备的密封性,提高了设备的整体性能

● 法兰盘冷却水处理,密封处全部采用氟橡胶密封圈,保证设备的密封性及使用寿命

● 内置冷却电机,保证设备的低漏率,且运行可靠

● 真空室的压升率为5×10-3Torr /h,氦质谱仪进行检漏,漏率在E-11Pa.m3/s级

详细介绍

真空烤盘炉

应用于LED行业MOCVD石墨盘的真空烘烤工艺

产品特点

  优质的材质保证了设备的密封性,提高了设备的整体性能

  法兰盘冷却水处理,密封处全部采用氟橡胶密封圈,保证设备的密封性及使用寿命

  内置冷却电机,保证设备的低漏率,且运行可靠

  真空室的压升率为5×10-3Torr /h,氦质谱仪进行检漏,漏率在E-11Pa.m3/s级

  全自动程序控制功能,自动化程度高,自动与手动可随时转换,处理异常情况极为方便

  关键部件全部采用进口部件,具有高可靠性

  具有良好的人机界面

  系统故障自诊功能

  完善的报警系统及安全系统

  具有历史记录功能

  可根据用户的特殊要求增减开发相应功能

 

 

 

 

     技术指标

 

规格与性能

VBF-465

VBF-650

VBF-800

VBF-1000

安装尺寸 W×L×H

2450×2500×2050

2480×2500×2150

2930×2880×2400

3310×3000×2700

加热区尺寸φ×L

Φ520×700

Φ750×750

Φ890×1000

Φ1080×1100

工作区尺寸φ×L

Φ480×600

Φ650×740

Φ800×900

Φ1000×1000

载重量

120Kg~200Kg

加热体功率

环状石墨加热器

380V 三相  总加热功率90~120KVA

绝热系统

多层石墨毡、柔性石墨纸

高温度

1450℃(超温限制)

分压气体选择

N2/混合气体(Forming gas)

备压气体选择

N2

大升温速率

10℃/min(空炉)

温度均匀性

±4℃(800~1400℃

冷态真空度

(冷炉、空载、大气压状态下达到10-3 Torr:≤30min

抽气速率

清洁空炉:30min大于10-2 Torr

腔体漏率

5×10-3 Torr/h

大冷却速率

快冷开启之前可控可编

 

真空烤盘炉

 

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