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详细介绍
日本AMAYA株式会社天谷制作所
用于小规模生产和开发的柔性常压CVD设备D501系列
用于小规模生产和开发的柔性常压CVD设备
D501系列
用于将多个晶圆装入大托盘的间歇式常压CVD设备
特征
这是一种间歇式常压CVD系统，其中多个晶圆被装入一个大托盘中，托盘在分散头下往复运动以形成薄膜。
它可用于变形的基材。
它具有紧凑的仪器尺寸和较小的占地面积。
性能
| 均匀的薄膜厚度 | 取决于薄膜类型和厚度 |
|---|---|
| 支持的晶圆尺寸 | 根据可加热区 |
| 气体种类 | SiH4， O 2， PH 3， B 2 H6， N 2（TEOS， TEB， TMOP，O3， TMA 可选） |
| 薄膜沉积温度 | 350°C~450°C |
| 生产力 | - |
主要规格
| 设备尺寸 | 1200毫米（宽） x 2480毫米（深） x 1940毫米（高） |
|---|---|
| 加热机构 | 电阻加热 |
| 装载卸载 | 手动方法 |
| 分散头（气体喷嘴） | A63头 |
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