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详细介绍
UV解胶机
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基本参数 · 送料形式：抽屉式 · 电源电压：220V · 别名：UV膜黏性去除机 · 规格：550*550*260mm · 用途：适用于光学镜头、LED、IC、半导体、集成电路板、移动硬盘等半导体材料UV膜脱胶使用 · 品牌：蓝星宇科技 · 型号：LXY-UV150 · 加工定制 详细描述: 特性：粘着剂的硬化处理速度一般要30-40秒，但根据胶膜的粘着剂特性及适合性和灯管的波长，硬化的处理时间将增长或减少，不过此系统是适用性很高的，例如它可以使用于研发及大量生产； 用途：适用于光学镜头、LED、IC、半导体、集成电路板、移动硬盘等半导体材料UV膜脱胶使用 种类：化合物半导体 UV解胶机型号参数：
优点： 1.晶圆尺寸：可到6寸、8寸、12寸 2.操作者只要简单放置/拿开工作物，其它工作都是全自动 3. 外形小巧，桌上型的机型含有进口冷光源能均匀产生波长350-400nm的灯光照射，消除胶膜的粘胶 4、具有温度低、曝光均匀、结构紧凑、能耗小、是半导体行业的理想机型 | ||||||||||||||||||||||||||||||
UV解机
蓝星宇科技专业研发设计组装：紫外臭氧清洗机（UV清洗机），准分子清洗机，等离子清洗机等仪器设备。引进日本，德国，韩国*技术，设备已获得众多院校，研究所，高科技企业等客户*认可。
同时我们专注进口科学仪器设备及材料，主要代理有：德国Nanoscribe 双光子微纳 3D 打印机（双光子飞秒激光直写仪），德国 SUSS 苏斯光刻机，德国 Heidelberg 海德堡光刻机，美国 OAI 光刻机，德国 Raith 电子束光刻机，英国 Durtham 无掩膜光刻机，美国 Trion 刻蚀机.沉积机，德国 Sentech 刻蚀机.沉积机，德国 Optosol 吸收率发射率检测仪，日本 SEN UV清洗机.UV清洗灯，美国Jelight UV清洗机，美国 Nano-master 晶圆清洗机，美国 Arradiance 原子层沉积机，德国 WL 微波离子沉积机，德国 Iplas 微波离子沉积机，美国量子科学 Quantum 综合物性测量系统，德国 Diener 等离子清洗机等*技术产品；并可依据客户需求，研发定制相关仪器及材料。我们以具竞争力的价格为客户提供优质的产品与服务，为中国半导体/电子/光电/生物//高科技企业/高校学院/研究所/检测分析等客户提供设备仪器及材料。
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