详细介绍
SB-402曝光机(双面光刻机)
蓝星宇科技专业研发设计组装:紫外臭氧清洗机(UV清洗机),准分子清洗机,等离子清洗机等仪器设备。引进日本,德国,韩国*技术,设备已获得众多院校,研究所,高科技企业等客户*认可。
同时我们专注进口科学仪器设备及材料,主要代理有:德国Nanoscribe 双光子微纳 3D 打印机(双光子飞秒激光直写仪),德国 SUSS 苏斯光刻机,德国 Heidelberg 海德堡光刻机,美国 OAI 光刻机,德国 Raith 电子束光刻机,英国 Durtham 无掩膜光刻机,美国 Trion 刻蚀机.沉积机,德国 Sentech 刻蚀机.沉积机,德国 Optosol 吸收率发射率检测仪,日本 SEN UV清洗机.UV清洗灯,美国Jelight UV清洗机,美国 Nano-master 晶圆清洗机,美国 Arradiance 原子层沉积机,德国 WL 微波离子沉积机,德国 Iplas 微波离子沉积机,美国量子科学 Quantum 综合物性测量系统,德国 Diener 等离子清洗机等*技术产品;并可依据客户需求,研发定制相关仪器及材料。我们以具竞争力的价格为客户提供优质的产品与服务,为中国半导体/电子/光电/生物//高科技企业/高校学院/研究所/检测分析等客户提供设备仪器及材料。
产品参数
对准工作台指标:
X向行程:±4mm
Y向行程:±4mm
旋转角θ向:±5°
基片尺寸:Maxφ4″
掩模尺寸:Max5″×5″
双面对准精度:±0.003mm
□机械手构指标;
机械手对下掩模分离间隙:0~100μm(当量1μm)
□曝光系统指标;
光源:250W超高压汞灯
波长:UV365
大曝光面积;φ110mm
曝光不均匀性:±3%
曝光分辨率:3μm(正胶)
汞灯冷却: 风冷
曝光时间:0~999s 档量1s
□分离视场显微镜指标:
总倍率: 65X
视场:φ3.3mm
物镜分离距离:26~70mm
□所需设施:
输入电压:~220V±22V(50HZ)
整机功率:1.5KW
室内光线: 红色、黄色
氮气(N2):0.2~0.4MPa
压缩空气:0.5~0.7MPa
真 空 :-0.08~-0.1mPa
□体积及重量:
重量: 480㎏
外形尺寸:950㎜×850㎜×1500㎜
SB-402曝光机(双面光刻机)