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详细介绍
超声波半导体材料清洗机设备1、极少会伤害到被清洗零件。2、能够洗净微小的粒子。3、很少会引超洗净斑，交有良好的洗净均一性。4、不会产生噪音。5、可清除附近氧化铈（cerium oxide），二气化硅（sillicon dioxide）等研磨剂中干燥后的粒子。6、可良好产生及持续空穴现象（清洗能力强）。7、表面的交换性（exchange of surface contamination）良好，因为污染扩散快，能加强清洗能力，缩短清洗时间。8、DI Water的冲洗性能良好，在清洗过程中即使清洗剂干燥，也可以冲洗。9、可除去固著性的尘埃。10、可优越清除0.5μ以下的粒子。超声波半导体材料清洗机设备
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