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VTC-600-2HD 双靶磁控溅射仪

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更新时间：2023-01-11 10:01:39浏览次数：304次

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深圳市科晶智达科技有限公司

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产品简介

简要描述：VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

详细介绍

功能特点

技术参数
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。
水	设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
电	AC220V 50Hz，必须有良好接地
气	设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀
工作台	尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
通风装置	需要
电源电压	220V 50Hz
大功率	<560W（不含真空泵）
极限真空度	< E-6mbar（配合本公司设备使用可达到E-5mbar）
工作温度	RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）
靶枪数量	2个（可选配其他数量）
靶枪冷却方式	水冷
靶材尺寸	Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
直流溅射功率	500W（可选）
射频溅射功率	300W/500W（可选）
载样台	Ø140mm
载样台转速	1rpm-20rpm内可调
保护气体	Ar、N2等惰性气体
进气气路	质量流量计控制2路进气，每个流量为100SCCM
主机尺寸	500mm×560mm×660mm
整机尺寸	1300mm×660mm×1200mm
重量	160kg
可选配件	金、铟、银、白金等各种靶材
标准配件	1	直流电源控制系统	1套
	2	射频电源控制系统	1套
	3	膜厚监测仪系统	1套
	4	分子泵（德国进口）	1台
	5	冷水机	1台
	6	冷却水管（Ø6mm）	4根
	7	靶材（不锈钢靶、陶瓷靶）	各1件