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反渗透水处理装置厂家

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更新时间:2024-05-16 21:10:52浏览次数:116次

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反渗透水处理装置厂家由于反渗透膜的孔径非常小,仅为10?0 -10m(10埃)左右,因此能够有效地去除水中的溶解盐类、胶体、微生物、重金属离子、有机物、热源、病毒、细菌等。

反渗透水处理装置厂家产品详情:

      根据水源水质的实际情况,工艺采用机械过滤器、加药系统、精滤作为预处理,双级反渗透为主机,zui后用臭氧灭菌工艺,使产品水达到国家饮用纯净水《GB17323-98》标准。矿泉水设备工艺可根据客户要求采用全自动或手动控制。反渗透纯净水装置自动控制采用PLC为核心、变频控制电机、触摸屏人机介面对话,运行参数可实时监控,可以实现高度的自动化,使得反渗透纯水处理整个系统运行更安全可靠,更人性化。

      反渗透概念:反渗透亦称逆渗透(RO)。是用足够的压力使溶液中的溶剂(通常指水)通过反渗透膜(或称半透膜)分离出来,达到分离、提取、纯化和浓缩的目的。因为它和自然渗透的方向相反,故称反渗透。

反渗透水处理装置厂家工艺流程

    对各种因素的认真分析考虑,结合甲方的实际现场情况和要求及以往工程经验,采用以原水预处理 超纯水制备 超纯水循环处理为主体的高纯水处理工艺,出水*可以达到国家饮用纯净水《GB17323-98》水质标准。

1.2 工艺系统简述
    本系统分三部分即原水预处理、超纯水制备、超纯水循环处理。各部分功能简述如下:

1.2.1 预处理
    预处理主要目的是去除原水中的悬浮物、胶体、硬度、有机物和余氯等妨碍后续反渗透运行的杂质。处理设施包括原水箱、原水泵、反洗水泵、板式换热器、双介质过滤器、活性炭过滤器、絮凝剂加药系统。

1.2.1.1 多介质过滤器
    多介质过滤器主要去除水中的悬浮物和胶体。通过在其进水管道投加PAC絮凝剂,采用微絮凝过滤方式,使水中大部分悬浮物和胶体变成微絮体在双介质滤层中截留而去除,多介质过滤器共采用1.
多介质过滤器的反洗可根据运行时间来决定反洗。

1.2.1.2 活性炭过滤器
    活性炭过滤器主要去除水中的有机物和余氯,系统采用1台活性炭过滤器.

1.2.1.3
板式换热器
    板式换热器利用蒸汽加热,使反渗透进水温度保持在25以上,防止因水温过低造成反渗透膜产水量不足。

1.2.2 超纯水的制备
    超纯水的制备包括加阻垢剂装置、二级反渗透装置、EDI装置、脱氧膜组、去TOC紫外灯、抛光混床、超纯水箱。

1.2.2.1 加阻垢剂装置

    由于反渗透膜脱盐装置为溶解固形物浓缩排放和淡水的利用,根据原水水质分析报告,为了防止浓水端,特别是RO压力容器中zui后一根膜元件的浓水侧出现诸如CaCO3CaSO4浓度积大于其平衡溶解度指数而结晶析出,从而损坏膜元件的应用特性,因此在进入膜元件之前设置了阻垢剂投加装置。该装置由计量箱、计量泵组成。

    经过计算,阻垢剂选用美国有机复合阻垢剂,投加量1-2mg/l。该阻垢剂为高效分散剂,对碳酸钙结垢在不加酸的条件下LSIzui大允许值为2.8。同时对水中liu酸盐的结垢,以及水中含有Ba2 Sr2 等盐份的结垢都有很好的控制作用。

1.2.2.2 二级反渗透装置
包括两级RO装置、清洗系统和中间水箱。

    RO反渗透主要去除水中溶解盐类、有机物、二氧化硅胶体、大分子物质及预处理未去除的颗粒物等。采用两级RO工艺可有效去除水中离子,同时使出水满足后续EDI装置工艺进水要求。

    反渗透系统由1过滤器、2台高压泵和压力容器及反渗透膜组成。*级反渗透装置RO21排列,采用68寸膜串联排列方式,产水量为 m3/h,回收率75%;第二级反渗透装置RO11排列,采用38寸膜串联排列方式,产水量为 m3/h,回收率85%。膜元件*级选择海德能公司低压复合膜CPA3,第二级选择海德能公司超低压复合膜ESPA2选用ESPA3

    为确保RO装置的稳定运行,在RO前设置了UV消毒器和阻垢剂加药系统。UV消毒器1台,处理量为17.6m3/h,主要作用是杀死水中的细菌,避免RO膜受到污堵。紫外灯发射波长为254 nm,强度为30000 μWs/cm2,杀菌率为99%

  为防止RO装置中浓水侧结垢,须在进水中投加阻垢剂,阻垢剂采用FLOCON260,设计投加量为2.4 mg/L。或采用PTP0100阻垢剂,设计投加量为1 mg/L

  为去除水中的CO2,在两级RO之间投加NaOH调节一级RO出水的pH值为7.83NaOH的设计投加量为4.5 mg/L

RO清洗系统为撬装设备,包括清洗箱、5 μm过滤器和清洗泵。当RO系统发生结垢或污堵时可对RO装置进行清洗,同时也可清洗EDI

  中间水箱的功能为储存RO产水、调节水量,使系统运行可以灵活调节。
  两级RO系统产水的电导率<10 μs/cmSiO2含量<500 μg/LTOC50 μg/L

1.2.2.3 紫外线杀菌灯
设置紫外线杀菌灯,确保精处理系统的细菌指标。紫外线杀菌灯照射强度>60000μws/cm2,照射时间8750 h,杀菌率>99.99%

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