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真空镀膜机蒸发镀膜工作原理

真空蒸发镀膜是PVD技术中发展zui早、应用较为广泛的镀膜技术。尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸镀*，但真空蒸发技术仍有许多优点，如设备与工艺相对比较简单，即可镀制非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等，仍然是当今非常重要的镀膜技术。近年来，由于电子轰击蒸发，高频感应蒸发及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用，使这一技术更趋完善。

将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸时，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的冲击阻碍，可直接到达被镀的基片表面，由于基片温度较低，便凝结其上而成膜。

板式换热器(板式冷却器)是在两两相邻的传热板片所形成的狭窄而曲折的通道中流过，冷、热介质依次通过各自流道，中间隔一层传热板片，冷、热介质的传热过程实际上就是热介质的热能传递给冷介质的过程。在此过程中温度较高的介质通过传热板片将热能传递给温度较低的介质，热介质被冷却，冷介质被加热，通过热能转移来实现热工工艺的要求。