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混床离子交换设备 详细摘要: 温床离子交换设备用途:混合离子交换器为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为 10-18MΩ.CM(25℃), 二氧化硅含量(SiO2)≤0.02mg/L ...
产品型号:离子交换设备 所在地:北京市 更新时间:2015-06-20 参考价: 面议 在线留言
三达水(北京)科技有限公司 |
详细摘要: 温床离子交换设备用途:混合离子交换器为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为 10-18MΩ.CM(25℃), 二氧化硅含量(SiO2)≤0.02mg/L ...
产品型号:离子交换设备 所在地:北京市 更新时间:2015-06-20 参考价: 面议 在线留言