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光触媒研磨分散机

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  • 公司名称上海思峻机械设备有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间2023/4/21 13:26:31
  • 访问次数610
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  上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等,培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才!在德国SGN工业设备的基础上,思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。
  公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。
  公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。
  “业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!


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光触媒研磨分散机,上海SGN应对纳米级物料的分散,研发出新型设备,高剪切研磨分散机,将胶体磨和分散机一体化的设备,纳米级浆料进入研磨分散后,行研磨将团聚体打开,然后再经过分散工作组,进行分散,避免再次团聚。
光触媒研磨分散机 产品信息

光触媒研磨分散机,纳米光触媒分散机,光触媒分散机,纳米二氧化钛分散机,光触媒超细分散机,纳米分散机

 

光触媒是一种以纳米级二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称。在所有的光触媒材料中,纳米TiO2不仅具有很高的光催化活性,且具有耐酸碱腐蚀、耐化学腐蚀、无毒等优点,价格也适中,具有较高的性价比,因而市场上大多使用纳米二氧化钛作为主要原材料。 


对于纳米级物料的分散,容易出现团聚的现象,纳米二氧化钛的分散也不例外。团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小,表面原子比例大,比表面积大,表面能大,处于能量不稳定状态,因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起,很容易团聚,形成团聚状的二次颗粒,乃至三次颗粒,使粒子粒径变大,在每个颗粒内部有细小孔隙。

 

纳米颗粒的团聚一般分为两种:软团聚和硬团聚。对于软团聚机理,人们的看法比较*,即,软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致,由于作用力较弱,可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。

  

光触媒研磨分散机SGN高剪切研磨分散机是纳米物料分散设备中*,在多个领域的纳米分散中都有着突出的应用。如:纳米二氧化钛、纳米二氧化硅、石墨烯、碳纳米管、纳米树脂、纳米涂料等!

上海SGN应对纳米级物料的分散,研发出新型设备,高剪切研磨分散机,将胶体磨和分散机一体化的设备,纳米级浆料进入研磨分散后,行研磨将团聚体打开,然后再经过分散工作组,进行分散,避免再次团聚。
       

SGN研磨分散机是高剪切胶体磨+高剪切分散机的设备,将两者一体化,解决了时间差的问题,因为物料团聚是一个瞬间的过程,研磨后立即分散,效果好,效率高。

 

GMD2000系列研磨分散设备是SGN公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。

 

SGN化工研磨分散设备选型表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMSD 2000/4

300

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1000

10,500

44

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

3000

7,300

44

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

8000

4,900

44

37

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

2,850

44

55

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

2,000

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

           
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