产品名称高真空CVD管式炉
产品型号TN-G1100ZC
产品简介
主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等
TN-G1100ZC型高真空CVD管式炉
该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等。
仪器的控制系统采用产品,具有操作容易,安全可靠,控温精度高(专家PID控制),保温效果好,温度范围大,炉膛温度均匀性高,温区多,可通气泵,抽真空等特点。
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产品名称
TN-G1100ZC型高真空CVD管式炉
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产品型号
TN-G1100ZC-503 炉膛尺寸:直径50x300mm
TN-G1100ZC-603 炉膛尺寸:直径60x300mm
TN-G1100ZC-803 炉膛尺寸:直径80x300mm
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炉门结构
开启式
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上限温度
1200℃
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工作温度
≤1100℃
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加热温区
三温区
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温区长度
220mm
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恒温区长
100mm
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炉管材质
301S不锈钢管(可选刚玉管)
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密封方式
不锈钢真空法兰
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气密性
真空法兰和石英炉管的气密性可达4.03x10-3Pa
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控温方式
智能化30段可编程控制,自动控温
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控温精度
±1℃
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加热速率
≤20℃
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加热元件
硅碳棒
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热电偶
K型热电偶
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炉膛材料
进口氧化铝陶瓷纤维
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功率
2.5Kw
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电压
220V 50Hz-60Hz
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系统真空
5~10Pa(需要达到其它真空度时,需选配不同的抽真空装置)
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售后服务
12个月质保,终身保修
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