日本AMAYA天谷制作所株式会社
量产6英寸以下小直径晶圆的常压CVD设备A6300S
量产6英寸以下小直径晶圆的常压CVD设备
A6300S
6 英寸 吞吐量为每小时 120 张
采用SiC托盘防止重金属污染的对策
特征
这是一种连续常压CVD系统，可满足小直径晶圆批量生产设备的需求，实现每小时120片晶圆的吞吐量。
该设备通过运输系统实现批量生产，该系统*大限度地减少了为实现各种薄膜沉积区域而开发的分散头和托盘的数量，并降低了成本。
使用SiC托盘很难发生重金属污染。 此外，可以获得稳定的工艺性能，而由于热引起的老化很小。
标配自动托盘更换功能，实现工人**，缩短维护时间。 此外，自动抬起头部底座的机构便于清洁。
性能
| 均匀的薄膜厚度 | ≦±4.0% |
|---|---|
| 支持的晶圆尺寸 | ≦6英寸 |
| 气体种类 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 薄膜沉积温度 | 350°C~450°C |
| 生产力 | 120 页/小时 |
主要规格
| 设备尺寸 | 1500毫米（宽） x 2850毫米（深） x 2000毫米（高） |
|---|---|
| 加热机构 | 电阻加热 |
| 装载卸载 | 机器人 CtoC 运输 |
| 分散头（气体喷嘴） | A63 头（标准 2 头） |
