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优化设计之气氛炉2010/11/24
(技术中心-气氛炉)1前言气氛炉又称钢包炉、气氛保护炉,通常包括一个可以抽真空充气氛的容器及一个可置于其内的箱式炉。气氛炉在工业领域用途很广,尤其适用于磁性材料行业磁芯的烧结,主要用于实验室的小试及小批量生产。磁芯的烧结过程对氧分压有一定的要求,通常是抽真空后充入氮气保护进行烧结。传统气氛炉的结构如图1所示,采用硅碳棒加热,烧结温度低,炉腔温度均匀性差,维修工作量大,自动化程度低,相应的烧结产品档次低,性能一致性差。随着磁性材料行业的发展、电子设备的小型化、集成化,高性能产品的市场需求量越来越大
真空气氛炉介绍2010/11/23
(技术中心-真空炉)与传统的立式炉相比,真空气氛炉(真空炉)是一种*实验设备,其适用于金属,纳米,单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空气体保护下,是一种气氛热处理的高温炉加热设备.一般的烧结炉的用途主要就是用于烧结,而真空气氛炉却有所不同,它主要是用于材料或化学实验室,在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。真空气氛炉广泛应用于高、中、低温SK工艺,例如;纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。真空气
利用管式气氛炉快速升温,制备硒化锌纳米晶薄膜的办法2010/11/22
(技术中心-管式气氛炉)利用管式气氛炉快速升温制备硒化锌纳米晶薄膜的方法,取单质硒粉和单质锌粉按1∶1的摩尔比混合并转入高能球磨罐中,在氮气或氩气保护下球磨,使ZnSe粉末的尺度为5~20纳米;将ZnSe纳米粉放入石英舟一端的凹槽中,硅片或石英基片放在石英舟的另一侧;再将石英舟置于长度大于管式炉炉体长度1.5倍以上的石英管中,开启抽气机排氧并充入氩气,重复三次;将石英管冷端推入管式气氛炉中,要求5分钟内将石英管内放置的ZnSe纳米粉末原料升温到800℃~1000℃,使硅片或石英基片的温度为160
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