青岛微弘设备技术有限公司

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LPCVD低压化学气相淀积设备汤锅炉图片

2023-04-19 09:05:17695

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厂商性质:生产厂家
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图片描述：

LPCVD低压化学气相淀积设备式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜。由于工作压力低，气体分子的平均自由程和扩散系数大，故可采用密集装片方式来提高生产率。

图片来源：

https://www.foodjx.com/chanpin/5546959.html

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