LAP-2MV双盘双控金相磨抛机　　

一，设备简介

在金相试验室，金相试样制备过程中，试样的预磨、抛光、研磨、是多道*的程序。本机LAP-2MV研磨抛光机是通过多方面市场调研和广泛听取操作使用人员的意思及要求开发设计而成，该机的集污盘和罩采用金属外壳制成，具有外形更新颖美观产品。

本机集三种功能为一身，可适应多种材料的试样制备。该机的磨、抛、研盘直径均大于国内同类产品。磨、抛盘的转速可无极调速、还可以二级定速，抛盘的转速独立操作，是金相试样制备*设备。

二，主要参数：

磨抛盘直径：230mm

砂纸直径：230mm

转速：无极调速，100-1000r/min，具有正/反转功能；

也可以二档定速：300 r/min,600 r/min,

电动机：直流无刷电机 220v 750w

外形尺寸：760×640×330mm

净　　重：55Kg

三，随机清单：

四，面板功能介绍：