详细介绍
PVD物理气相沉积设备 本设备为磁控溅射工艺镀膜设备,可用于Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、LCO、LiP等各种金属、非金属、化合物薄膜材料的制备。通过稳定可靠的高精度真空机械手臂,将基片在工艺室和传输室间传输,实现工艺室不放大气,连续生产。配置高性能溅射靶头,可根据客户需求定制。
2、技术参数
基片尺寸 | 可选:4"、6"、8"、12" |
极限真空度 | 8×10-6Pa(分子泵配置) |
前级泵 | 可选:机械泵、干泵 |
主泵 | 可选:分子泵、低温泵 |
加热器 | 600℃,可选配升降及旋转功能 |
工艺气体 | 配3路MFC充气,气体种类可选,更多需求可定制 |
水路系统 | 采用进口水路检测传感器,实现各路水流量及温度的监控 |
软件控制 | 可编辑、储存多种工艺配方,任意调用,适用于工艺研究 |
具备“一键启动式(全自动)生产”功能,适用于小批量生产 | |
账户分三级权限设置,提高系统安全性及工艺保密性 | |
各种安全互锁设计,防止误操作 | |
其他 | 如有其他特殊需求可定制 |
PVD物理气相沉积设备
成都华聚科技有限公司位于成都市经济技术开发区(龙泉驿),是一家以自动化设备技术为核心,致力于数字化智能制造装备的高科技企业。
公司与国内外多个研究所、高校和企业*合作,始终以超前的科技和强大的创新能力,服务于客户。
公司主营业务覆盖:Cluster团簇式半导体工艺设备、PECVD设备、PVD设备、CVD设备、核心部件(机械手、加热器、Cluster团簇中心传送平台)、定制化真空设备、机电一体自动化服务(机电物联网服务)等一系列的产品或解决方案。
公司始终以“技术体现我们的智慧,质量体现我们的尊严” 作为公司经营理念,同时加强售前售后服务,我们始终以“质量良好、服务优先、技术*”作为追求目标。
公司汇聚了众多相关领域的人才,针对客户的产品特点提供专业解决方案,更能以优质的标准及非标产品超越客户的期望,深受广大客户的认可和赞誉!
公司现有26人专业团队,并另聘请研究员1人,大学材料教授和等离子物理团队6人,高级工程师2人,涵盖真空工程、材料科研、等离子物理,器件物理、化管理等方面的各种人才。
Chengdu Huaju Technology was founded in 2016, the registration place is located in Chengdu economic and technological development zone.Our company concentrates on R&D , manufacture of the high-end automatic equipment as well as the vacuum application equipment of the micro-nano materials and devices, and we are the leading company of the field of vacuum. In addition, we cooperate with many scientific research institutes(colleges and universities).