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PVD物理气相沉积设备 详细摘要： PVD物理气相沉积设备本设备为磁控溅射工艺镀膜设备，可用于Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、...
产品型号： 所在地：成都市 更新时间：2019-07-02 参考价： 面议 在线留言
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成都华聚科技有限公司 |
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