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128L箱式炉 LMF1400C-128 详细摘要: 128L箱式炉 LMF1400C-128术有限公司是应材料界老客户呼吁而成立的专业致力于材料制备、真空镀膜、真空检测、等离子清洗、镀膜等设备的研发、生产型企业。...
产品型号: 所在地:合肥市 更新时间:2019-07-07 参考价: 面议 在线留言 -
高温真空回转炉 LFT1200C 900D60IIIR 详细摘要: 高温真空回转炉 LFT1200C 900D60IIIR冷结构,炉体表面温度≤60℃,炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。。进口加热电阻丝镶嵌延长炉体使...
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三温区真空管式炉LFT1200C 600D130III 详细摘要: 三温区真空管式炉LFT1200C 600D130III由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量...
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真空封管机系统 LSQ-01 HV600 详细摘要: 真空封管机系统 LSQ-01 HV600 合肥康帕因设备技术有限公司是应材料界老客户呼吁而成立的专业致力于材料制备、真空镀膜、真空检测、等离子清洗、镀膜等设备的...
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奥豪斯天平系列 详细摘要: 奥豪斯天平系列始终专注于高性能称重设备和分析测试仪器的研发和生产,致力于为客户提供实用、高性价比产品,成就斐然。
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液体导电银胶SEM25g/瓶 详细摘要: 液体导电银胶SEM25g/瓶增强导电性。使用前不需要做表面特殊处理即可粘结如陶瓷、玻璃、金属、塑料、玻璃纤维等样品。导电胶稀释液可调整导电胶的粘稠度。银导电胶为...
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LED 数显加热型磁力搅拌器 MS-H280-Pro 详细摘要: LED 数显加热型磁力搅拌器 MS-H280-Pro的安全回路设计,任何时候当盘面温度超过320度自动停止加热,保证实验室安全。
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小型真空管式炉LFT1200C 230D50 详细摘要: 小型真空管式炉LFT1200C 230D50设备特点:1200℃开启式迷你真空管式炉炉体小巧,升温速度极快,它不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉...
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高温高压管式炉 LFT1400C-II 详细摘要: 高温高压管式炉 LFT1400C-II 高温高压管式炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料。
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LED数显7寸加热板 HP550-S 详细摘要: LED数显7寸加热板 HP550-S符合通行的安全防护DIN/EN 60529标准,高保护等级IP21,封闭式外壳阻止液体溅入机器内部腐蚀电路,保障运行安全。
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微型箱式炉 LFM1200C-1 详细摘要: 微型箱式炉 LFM1200C-1同时设有通气接口,可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、升降温度速率快、节能 等优点,此外,该款设备还可...
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区域熔融纯化设备 LFT1200C 100D50 详细摘要: 区域熔融纯化设备 LFT1200C 100D50制程序实现炉体移动与温度控制同步,当设备达到设定温度点后,炉体在PLC控制的电机驱动下,开始移动,碰到限位开关后...
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双温区真空管式炉(分体式) 详细摘要: 双温区真空管式炉(分体式)于整个炉膛,环型加热,确保温场均匀可靠。双温区结构设计,可以获得较长的恒温区,解决普通单温区恒温区较短的问题。是一款性价比很高的产品,...
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低真空系统 LVU-10 详细摘要: 后无忧。CPI设低真空系统 LVU-10备广泛应用于新能源材料,金属材料,磁性材料,半导体材料,陶瓷材料,电化学,薄膜材料,CVD,PECVD ,石墨烯,碳纳米...
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多通道质量流量控制系统 MFC-5Z 详细摘要: 多通道质量流量控制系统 MFC-5Z在与本公司大多数管式炉配套使用时,可将设备置于移动柜上以节约空间。各通道气路的流量设定和状态显示都集中在一个7“的触摸屏上,...
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双温区滑轨式CVD系统 详细摘要: 双温区滑轨式CVD系统当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避...
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双温区滑轨式CVD系统(含预热器) 详细摘要: 双温区滑轨式CVD系统(含预热器)当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态进入炉管的气体流量需小于200S...
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小型立式管式炉LFT1200C-VT 200D60 详细摘要: 小型立式管式炉LFT1200C-VT 200D60该设备使用石英管为反应炉管,避免在正压条件下使用。实验使用温度不超过1150℃。
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LFT系列高温真空回转炉 详细摘要: LFT系列高温真空回转炉由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MP...
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三温区真空气氛回转炉CVD系统 详细摘要: 三温区真空气氛回转炉CVD系统对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于...
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