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化学气相沉积系统(CVD): 高真空CVD系统等离子增强CVD系统(PECVD) 石墨烯、纳米管生长炉低真空CVD系统

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1200℃石墨烯生长炉
产品介绍：KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生长炉由KJ-1200T管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成，温度可以达到1200度,可以是单...

型号： KJ-1200T-... 所在地：参考价：面议更新时间：2024/7/13 17:08:55 对比
石墨稀、碳纳米管材料CVD设备
产品介绍：KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳纳米管材料CVD设备由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成，温度可以达到1050度,可以是单温区、双温区...

型号： KJ-T1050-... 所在地：参考价：面议更新时间：2024/7/13 10:39:58 对比
科研型扩散氧化炉
产品特点：1、可满足多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等工艺2、采用高可靠性工控机+PLC模式，对炉温、进退舟、气体流量、阀门进行全自动控制,实现全部工艺过程自动...

型号： KJ-T1300-... 所在地：参考价：面议更新时间：2024/7/13 10:34:43 对比

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