PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等，是科研机构和大学实验室的理想产品。
产品介绍：
该设备是一款定制的PECVD系统，增加了倾斜、旋转功能。该系统包含等离子射频电源，高温管式炉，4通道质量流量供气系统和分子泵机组。可用于生长纳米或石墨烯材料。
技术参数：
| 产品名称 | 定制旋转PECVD系统 |
| 滑轨管式炉部分 | |
| 产品型号 | KJ-T1200-S80-DZPECVD-R |
| 炉管尺寸 | 80*长度1600mm 可选其他直径Φ50，60，80，100，120，150mm |
| 炉管材质 | 石英管 |
| 加热区 | 单温区，温区长度400mm |
| 工作温度 | 1100℃ |
| 温度 | 1200℃ |
| 温控方式 | K型热电偶 |
| 控制方式 | 触屏控制 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 温控保护 | 具有超温和断偶保护功能 |
| 升温速率 | 0-20ºC/min可调 ，建议10ºC/min |
| 加热元件 | 含钼电阻丝 |
| 工作电压 | AC 220V 单相 50HZ （电路电压用户可选择定制） |
| 加热功率 | 3KW |
| 炉膛材料 | 氧化铝多晶纤维 |
| 法兰接头 | 标配配有不锈钢真空法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀 |
| 密封系统 | 该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，磁流体密封，气密性好可实现炉管旋转过程中的高真空。 |
| 真空系统部分 | |
| 主要参数 | 采用高真空分子泵组，炉管内真空度可达10-3pa |
| 气路系统部分 | |
| 名称 | 四路质量流量计（量程可选） |
| 等离子电源部分 | |
| 功率范围 | 0-500W（连续可调） |
| 售后服务 | 质保一年，终身保修（耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等及人为损坏不属于质保范围） |
| 更多规格可根据客户需求定制 | |
1、我公司对所供设备提供质保一年保修服务（易损件除外），在保修期内因设备质量原因造成的设备损坏或故障，均予以免费维修。保修期满后，仍提供终身的、优质的维修服务。
2、在设备使用过程中如遇故障的，我公司将尽快做出处理方案，确保设备正常运行。
3、我公司设提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。
4、我公司技术人员可提供(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。
5、本公司可提供运输服务，包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全（用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等）。
6、本公司所有产品均有欧盟CE质量认证。
