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设备特点
1: 整体化程度高 , 易于扩展 , 增加膜数量即可增加处理量。
2: 自动化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自动保护功能。
3: 膜组件为复合膜卷制而成 , 表现出更高的溶质分离率和透过速率。
4: 能耗低 , 水利用率高 , 运行成本低。
5: 结构合理 , 占地面积少。
6: *的膜保护系统 , 在设备关机 , 淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净 , 延长膜寿命。
7 系统无易损部件 , 无须大量维修 , 运行长期有效。
8: 设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。
主要用途
1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。
2、电子产品的生产和清洗。
3、电池产品的生产。
4、半导体产品的生产和清洗。
5、电路板的生产和清洗。
6、其他高科技精细产品的生产。
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