产品介绍:六通道高真空PECVD系统是一款由1200度管式炉，等离子射频电源，分子泵高真空，六通道气路等组成的等离子化学气相沉积系统，加热腔体采用氧化铝纤维制品...

产品介绍：滑道式PECVD系统由PT-1200T管式炉加热系统、真空系统、质量流量计供气系统、等离子射频电源系统组成

产品介绍：该设备是一款带有预热系统的滑动PECVD系统

产品介绍：KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳纳米管材料CVD设备由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成，温度可以达到1050度,可以是单温区、双温区...

产品特点：1、可满足多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等工艺2、采用高可靠性工控机+PLC模式，对炉温、进退舟、气体流量、阀门进行全自动控制,实现全部工艺过程自动...

产品概述：KJ-T1200-S50-3Z迷你型CVD管式炉，是一款通过CE认证的可开启式管式炉，能使样品加热到1200℃

产品介绍：该设备由蒸发器、混合器和反应器组成